从活化到超精细清洗：技术性洁净金属表面的新路径

工业洁净度在制造过程中正变得日益重要。即便是最轻微的污染物，也可能影响附着力、导致涂层缺陷或影响产品的长期稳定性。除油脂外，氧化物、盐分和指纹印迹也日益受到关注。这些通常肉眼难以察觉的残留物，会对后续工序的质量造成显著影响。

Openair-Plasma^®已成为去除有机污染物和活化金属表面的高效技术。然而，在工业洁净度要求较高的应用中，仅靠活化有时并不足够。尤其当表面存在无机污染物时，即使已进行清洁和活化，仍可能影响工艺可靠性。

在本次等离子研讨会中，您将了解 HydroPlasma^® 如何拓展常压等离子清洁的应用范围。该技术将等离子与电离水分子相结合，可选择性地去除有机和无机残留物，获得符合工业洁净度要求的金属表面，为稳定、可重现的制造工艺奠定基础。

本期研讨会的主要内容：

• 工业洁净度是可靠制造工艺的基础
• 金属表面有机与无机污染物带来的挑战
• Openair-Plasma^®用于表面清洁与活化
• HydroPlasma^®用于去除氧化物、盐分和指纹印迹
• 在粘接、涂覆、喷涂及防腐中的应用
• 工业生产中高效且可持续的清洁方案
• Openair-Plasma^®、HydroPlasma^® 与 PlasmaPlus^® 组合应用，实现全面的表面预处理

本期等离子研讨会免费参加，面向研发、质量保证领域从业人员，以及设计工程师、工艺工程师和设备操作人员。

会议时长约 40 至 60 分钟，内容包含实践性见解与现场问答环节。如有具体问题，欢迎提前发送至 academy@plasmatreat.com ，我们将在直播中予以解答。